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关于ta-c薄膜的制备装置和工艺及应用
发布时间 : 2018-12-03 来源:  点击量:

负责人:赵玉清

所在学院:电信学院

一、项目简介

1.基本情况

    碳基薄膜包括种类很多,例如石墨、金刚石、非晶碳、石墨烯、碳纳米管、碳化硅、碳化钛等,因此碳基材料具有非常丰富的物理化学特性,一直是科学家研究的重点。

    碳基薄膜中C有四个价电子,可以有包含sp3、sp2和sp1三种杂化方式。在sp3键组态中,碳原子的4个价电子分别与相邻碳原子结合,形成一个正四面体取向的sp3杂化轨道,形成加强的σ键;在sp2组态中,4个价电子中的3个与相邻碳原子结合,形成平面三角形的sp2杂化轨道,也是σ键,第4个价电子则处在垂直于平面的轨道,形成较弱的π键;而在sp1组态中,只有两个价电子形成σ键,其它的两个则形成π键,根据sp3、sp2和sp1三种杂化方式的组合构成碳基材料的结构和物理特性。

    当薄膜中以SP2杂化键为主时,呈现出石墨的特性,当薄膜中以SP3杂化键为主时,呈现了金刚石特性,通常称为金刚石或类金刚石膜(DLC)。

    金刚石薄膜具有高硬度、低摩擦系数、导热、绝缘、吸收紫外、抗辐射损伤、耐腐蚀等诸多优良的物理化学特性一直是科学家研究的热点课题。

    金刚石薄膜分为单晶、多晶和非晶态材料,单晶和多晶金刚石材料常常是在高温下形成,而DLC是在常温下形成的一种亚稳态的非晶态材料,可分为含氢类金刚石膜(hydrogenated amorphous carbon,简称a-C:H)和不含氢类(amorphous carbon,简称a-C)。一般a-C的sp3键含量高于a-C:H,所以也具有更高的硬度。当a-C中sp3键含量达70%以上,被称为非晶四面体碳(tetrahedral amorphous carbon,简称ta-C)。

本项目即为ta-c薄膜制备技术。

    衡量金刚石薄膜质量的方法主要是看其SP3结构含量,含量越高,其性质越接近天然金刚石,如何得到高含量的sp3键是科学家们研究的重点。而目前国际上制备的金刚石薄膜以ta-c的SP3含量最高,可以达到85%以上,因此其性质最接近天然金刚石。  

   本项目目前达到的水平为:SP3结构达到87%,薄膜硬度HV≥85Gpa,平整度0.2nm,摩擦系数≤0.08,紫外吸收97%以上。

2.国内外技术发展现状与趋势

    本技术自从1991年由澳大利亚的D.R.Mckenzie和D.Muller研制成功,目前美国、英国、德国、新加坡、日本、韩国、澳大利亚、以色列、香港各国科学家都在努力将该技术应用于工业生产中。

二、技术性能指标

1. 该技术与市场现有的部分硬质镀膜技术的比较

    该膜层可沉积在金属、陶瓷和介电材料等基体上,膜厚可从几纳米到几微米,均匀度误差达±1%,是目前其它方法无法达到的。采用该方法镀制的膜层,其硬度和耐磨性能高于其它方法。表1为目前国内常用的一些耐磨损涂层的显微硬度和摩擦系数。

表1目前市场使用的常用的薄膜材料特性

涂层

摩擦系数

(以玻璃为底材)

显微硬度Gpa

抗高温氧化性能

TiN

0.84

20~25

一般

TiC

0.6-0.7

25~30

一般

CrN

0.83

15~20

一般

TiCN

/

25~30

一般

CrAlN

0.66

/

/

CrTiAlN

0.55~0.6

/

很好

TiAlN

0.77

28~32

很好

Al2O3

0.5

25~30

很好

DLC

0.09~0.1

35~40

/

 

表2为ta-c薄膜的物理特性

膜层厚度

2nm~1µm

镀层结构

sp3≥80%

硬   度

HV≥80Gpa

表面平整度

0.2nm

膜的纯度

99.99%C

均匀度

±1%

沉积温度

< 80℃

沉积速度

1nm/s

电阻率

108-1010Ω.cm

光学带隙

2.6eV

摩擦系数

≤0.08

热导率

18w/cm2.k

耐磨性试验

采用摩擦磨损仪,加载500克,压头为4毫米直径钢球,样品台转速500转/分钟,出现磨痕为止进行实验,未镀膜高速钢为15分钟,硬质合金25分钟;镀膜后分别超过30小时和40小时;其他耐磨性能分别提高:玻璃1219倍,聚酯镜片14.7倍,不锈钢278倍,镀金试件167倍。

结合力试验

划痕法测定镀膜剥离临界载荷:高速钢和硬质合金上,达到125N; 200℃加热,自来水中激冷,20次热震循环,镀膜未见剥落。

切削实验

成都刀具量具研究所检测结果,6-8的丝锥,涂层200-300纳米,攻碳钢可提高4-6倍使用寿命,攻不锈钢可提高2-4倍使用寿命;片铣刀涂层300纳米,可提高可提高4-6倍使用寿命,硬质合金刀头涂层300-400纳米,可提高2-4倍使用寿命。

耐候试验

用功率为3300W/m2强紫外线照射240小时后,不鼓泡、起皮,耐磨性不变。室外暴露100天,不鼓泡,不起皮剥落,耐磨性不下降。5%盐水煮沸4小时,取出冷至室温,2个循环,不起皮剥落。

    通过比较可以看出,ta-c薄膜的特性远远优于目前市场使用的各种涂层。

2.该技术达到的主要技术指标

(1)装置的技术水平达到国际先进

制备的薄膜均匀,重复性好、工艺稳定。

(2)制备的非晶碳薄膜SP3结构超过85%以上,摩擦系数小于0.1以下,并可达到沉积工作条件为常温(80ºC)以下。

(3)可以根据不同基体设计不同涂层组合的复合涂层结构,并具有良好的附着力、耐磨损、摩擦系数小的良好特性。

(4)镀膜的均匀性在1%。

三、技术依托

    课题组依托电子物理教育部重点实验室,具有人才、测试等方面的优势,每年招收十几个博士和四十几个硕士,具有教授10人,副教授20余人。具有齐全的薄膜检测设备,供课题使用。

    目前实验室具有各种镀膜装置4台,扫描隧道显微镜一台,电子显微镜和俄歇谱仪各一台,X射线衍射仪一台,椭圆偏光薄膜测试仪一台,四极场质谱分析仪和超净台等设备。

    电子材料教育部重点实验室具有英国VG公司生产的多用表面分析仪,英国CAMSCAN公司生产的扫描电子显微镜。

    金属材料国家重点实验室具有透射电子显微镜,X射线衍射结构分析仪等也可使用。拉曼光谱测试可以在西安交大能动学院、理学院和材料学院完成。

四、市场前景及应用

    本课题为赵玉清教授团队经过近十年研究开发,形成了一些列成果包括:

(1)离子镀膜装置;

(2)离子源技术;

(3)薄膜技术。

    在实验和设备工艺方面具有丰富的实践经验和很高的造诣,先后获的国家和陕西省重大科技专项资助。目前已实现ta-c的部分工业产品的产业化生产。

应用领域:

1)工业领域

    本项目也被广州钢铁集团在全国调研2年后选中的转型转产的重点项目,目前已为广钢集团研制6台设备。

2)医疗领域

    义齿、牙托和人造关节涂层及医用不锈钢刀具。

3)切削刀具

    本项目不仅可以实现硬质合金金属切削刀具,而且已推广到高速钢刀具金属切削、木材和家具加工的高速钢和碳钢刀具。ta-c刀具已得到部分单位应用,如:陕西百纳科技,关中工具厂,东方机械厂五分厂,成都光华数控刀具厂,陕西重型汽车有限公司,标准集团股份有限公司,长岭机器有限公司,神龙汽车有限公司。

五、技术成熟度

□概念验证   □原理样机  □工程样机  □中试    R产业化

获奖情况:

(1)陕西省高等学校科技成果一等奖(带电粒子束源系列关键技术及其应用)2008

(2)陕西省科技成果二等奖(带电粒子束源系列关键技术及其应用)2008

(3)2008年度国际电工技术委员会特别贡献奖(IEC1908奖)

(4)四川省科技成果奖三等奖,RKDZQ270-1A型电子束蒸发源

(5)中国标准创新贡献奖一等奖,(IEC 60519-7:2008 电热装置的安全第七部分对电子枪装置的特殊要求、IEC60703:2008具有电子枪的电热设备的试验方法)(中国国家标准化管理化委员会;中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局)

(6)电工行业国际标准化贡献突出奖,中国电器工业协会,2009

专利列表:

(1)赵玉清 沈伯礼 赵鑫 朱克志 李冬梅 专利号: ZL2004 1 0026395.6  一种金属离子源,授权日:2007,3,7(发明专利)

(2)赵玉清  专利号:ZL012 47041. 4    一种用于工业省生产中制备超硬薄膜的离子源装置, 授权日:2002,6,26(实用新型)

(3)赵玉清 专利号:ZL012 47038. 4  制备超硬薄膜的离子源装置的滤质器 授权日:2002,7,31(实用新型)

(4)赵玉清  专利号:ZL012 47042. 4  阴极靶修磨器,授权日:2002,6,19(实用新型)

(5)朱克志,李东生,赵玉清,专利号:ZL012 65913. 4 固体离子源支撑支架,授权日:2002,9,18(实用新型)

(6)朱克志,李东生,赵玉清 专利号:ZL012 65931. 2  一种用于离子镀膜室的分度回转工作台,授权日:2002,9,11(实用新型)

(7)赵玉清等,硬质合金、高速钢材料表面制备非晶碳复合涂层的方法(发明专利,已授权):ZL 2011 1 0136163.4

(8)赵玉清等:一种树脂镜片、有机玻璃片表面超硬涂层方法(发明专利,已授权时间:2011,7,27)

(9)赵玉清等:一种医用不锈钢刀锯表面制备非晶碳涂层的方法(已授权2011,7,27) 

六、合作方式

□联合研发  □技术入股  □转让   £授权(许可) R面议